Marché de la lithographie EUV par équipement (source de lumière, optique, masque), utilisateur final (fabricant d’appareils intégrés (IDM), fonderies) et région pour 2024-2031
Published on: 2024-08-05 | No of Pages : 240 | Industry : latest trending Report
Publisher : MRA | Format : PDF&Excel
Marché de la lithographie EUV par équipement (source de lumière, optique, masque), utilisateur final (fabricant d’appareils intégrés (IDM), fonderies) et région pour 2024-2031
Valorisation du marché de la lithographie EUV – 2024-2031
Des technologies avancées telles que l'intelligence artificielle, la connectivité 5G et l'Internet des objets (IoT) sont intégrées dans la lithographie EUV pour développer des technologies de pointe. -puces semi-conductrices performantes et économes en énergie En conséquence, le marché de la lithographie EUV devrait atteindre une valorisation de 40,76 milliards de dollars au cours de la période de prévision, dépassant une taille de marché d'environ 9,42 milliards de dollars évalués en 2023.
En outre, la poursuite constante de la loi de Moore, ainsi que l'exigence d'une meilleure densité de transistors dans la fabrication de semi-conducteurs, stimulent la utilisation de la technologie de lithographie EUV et permettant au marché de croître à un TCAC de 20,1 % de 2024 à 2031.
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Marché de la lithographie EUV Définition/Présentation
La lithographie ultraviolette extrême (EUV) est une méthode de fabrication de semi-conducteurs de pointe qui crée des micropuces aux caractéristiques extrêmement petites. Il utilise des longueurs d’onde de lumière extrêmement courtes dans le spectre EUV pour modeler avec précision les matériaux semi-conducteurs à l’échelle nanométrique. En lithographie EUV, un laser à haute énergie produit une lumière EUV, qui est ensuite focalisée sur un photomasque doté des conceptions de circuits appropriées. Ces conceptions sont ensuite transférées sur une plaquette de silicium recouverte d'un matériau sensible à la lumière, permettant la création de circuits complexes.
De plus, ses applications sont nombreuses, allant de l'informatique aux télécommunications, en passant par l'automobile, la santé et les biens de consommation. électronique. Des processeurs et puces mémoire plus rapides aux capteurs plus efficaces et aux circuits intégrés avancés, la lithographie EUV est essentielle à la création de gadgets électroniques de nouvelle génération qui alimentent la société d'aujourd'hui.
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< p class="mb-4 text-18"> Nos rapports incluent des données exploitables et des analyses prospectives qui vous aident à élaborer des argumentaires, à créer des plans d'affaires, à élaborer des présentations et à rédiger des propositions. Quels facteurs propulsent la croissance du marché de la lithographie EUV ?
L'Internet des objets (IoT), l'analyse des mégadonnées, l'apprentissage automatique et les technologies artificielles. L’intelligence artificielle (IA) stimule la demande croissante de capacités de calcul hautes performances. De la même manière, le secteur de l’électronique grand public est constamment à la recherche de produits plus petits et plus puissants. La lithographie EUV est essentielle pour générer les puces sophistiquées requises pour ces applications, ce qui alimente la croissance du marché.
La croissance du marché de la lithographie EUV est alimentée par la mise en place d'une chaîne d'approvisionnement et d'un écosystème solides, qui comprennent le fabrication de matériaux, d’équipements et de connaissances spécialisés. À mesure que de plus en plus de fabricants de semi-conducteurs adoptent la technologie EUV, les fournisseurs de composants et de matériaux essentiels ont étendu leurs opérations pour répondre à la demande, propulsant ainsi le marché vers l'avant.
En outre, les principaux fabricants de semi-conducteurs et fournisseurs d'équipements de lithographie ont réalisé d'importants efforts de R& D des investissements pour accélérer le développement et la commercialisation de la technologie de lithographie EUV. Ces investissements ont abouti à des avancées dans les sources lumineuses, les masques et les résistances EUV, rendant la lithographie EUV plus pratique et plus rentable dans la fabrication de masse.
Quels sont les impacts potentiels de l'adoption de la lithographie EUV sur le marché ?
Les systèmes de lithographie EUV sont extrêmement coûteux, une seule machine coûtant plus de 100 millions de dollars. De plus, l'entretien et le fonctionnement de ces équipements nécessitent des dépenses permanentes importantes. Le coût élevé de l'équipement affecte non seulement l'investissement en capital des usines de fabrication de semi-conducteurs (fabs), mais également le coût total de production des puces, limitant potentiellement l'utilisation de la lithographie EUV aux seuls fabricants de semi-conducteurs les plus importants et les plus solides financièrement.
< La lithographie p>EUV fonctionne à une longueur d'onde de 13,5 nm, ce qui pose divers obstacles technologiques tels que la douceur du miroir, les défauts du masque et la sensibilité de la résine photosensible. En conséquence, atteindre et maintenir la précision extrêmement élevée requise pour une lithographie EUV efficace présente des défis techniques considérables sur le marché, ce qui entraîne une adoption plus lente.En outre, même si la lithographie EUV est considérée comme un facilitateur clé de la loi de Moore , d'autres technologies de structuration (telles que la lithographie multi-structuration avec lithographie ultraviolette profonde (DUV), l'auto-assemblage dirigé et la lithographie par nano-impression) évoluent. Ces alternatives offrent des solutions plus rentables pour des applications ou des générations de puces spécifiques. Cette concurrence entre l'EUV et ces technologies concurrentes influence la vitesse à laquelle l'EUV est mis en œuvre dans l'ensemble de l'industrie des semi-conducteurs.
Aperçus par catégorie
Quels sont les moteurs qui contribuent à la demande pour le Source lumineuse ?
Selon l’analyse, le segment des sources lumineuses devrait détenir la plus grande part de marché au cours de la période de prévision. La source lumineuse de la lithographie EUV est l’une des parties les plus avancées technologiquement du système. Pour générer de la lumière EUV, les gouttelettes microscopiques d’étain doivent être converties en un plasma qui émet de la lumière avec la longueur d’onde nécessaire de 13,5 nm. Ce processus est extrêmement complexe et nécessite des lasers haute puissance, un timing précis et des systèmes de contrôle sophistiqués. Le caractère unique et la complexité de cette technologie contribuent à sa part de marché considérable, car elle est vitale pour le fonctionnement de la lithographie EUV et nécessite des dépenses importantes en recherche, développement et fabrication.
Les coûts de développement et d'exploitation de l'EUV les sources de lumière sont élevées. La demande d’une lumière EUV intense, fiable et propre nécessite des investissements continus pour améliorer l’efficacité et la fiabilité. Ces dépenses se reflètent dans la part de marché, car les dépenses liées à la technologie des sources lumineuses représentent une part considérable du coût total des systèmes de lithographie EUV. En outre, les coûts opérationnels, tels que la maintenance et la consommation d'énergie, ajoutent à l'importance financière de la source lumineuse sur le marché des équipements EUV.
En outre, le marché des sources lumineuses EUV se distingue par un petit nombre de fournisseurs capables de fournir une technologie qui répond aux normes exigeantes des fabricants de semi-conducteurs. Cette contrainte est due aux obstacles élevés à l’entrée, qui incluent l’exigence de connaissances spécialisées, de brevets et d’importantes dépenses d’investissement. Le manque de fournisseurs se traduit par une part de marché plus élevée pour le segment des sources lumineuses, car la complexité de la technologie et sa fonction cruciale dans la lithographie EUV produisent un composant de grande valeur avec moins de concurrence.
Ce qui fait des fonderies l'épicentre de la croissance sur le marché ?
On estime que le segment des fonderies dominera le marché de la lithographie EUV au cours de la période de prévision. Les fonderies constituent l'épine dorsale de la fabrication de semi-conducteurs, offrant des services de fabrication en grand volume à un large éventail de clients, y compris des entreprises de semi-conducteurs sans usine. Leur modèle économique repose sur la capacité de créer efficacement d’énormes quantités de puces, ce qui en fait des candidats idéaux pour la mise en œuvre de technologies de pointe telles que la lithographie EUV. La capacité de la lithographie EUV à offrir des fonctionnalités de plus petite taille et des conceptions de puces plus complexes sans étapes de modélisation supplémentaires la rend particulièrement attrayante pour les fonderies qui souhaitent rester à la pointe de la technologie tout en répondant aux besoins de leur large clientèle.
Les fonderies investissent considérablement dans une technologie de fabrication de pointe pour préserver un avantage concurrentiel, et la lithographie EUV n'est pas différente. En raison de leurs opérations à grande échelle, les fonderies sont mieux placées pour absorber les dépenses initiales élevées associées aux équipements de lithographie EUV et amortir ces coûts sur un plus grand volume de puces. Cette capacité à répartir les coûts sur un grand nombre permet aux fonderies de réaliser des économies d'échelle, en réduisant le coût par puce et en augmentant la compétitivité du marché.
En outre, les fonderies établissent des alliances stratégiques avec de grandes entreprises technologiques et des entreprises de semi-conducteurs sans usine qui ont besoin de couper. technologies de traitement de pointe pour leurs appareils de nouvelle génération. La demande de semi-conducteurs plus petits, plus efficaces et plus puissants motive les fonderies à utiliser la lithographie EUV pour répondre à ces spécifications strictes. La demande de clients de premier plan pour des nœuds de processus sophistiqués qui ne peuvent être réalisés économiquement qu'en utilisant la technologie EUV renforce la position des fonderies sur le marché de la lithographie EUV.
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Pays /Aperçus régionaux
L'industrie florissante des semi-conducteurs en Asie-Pacifique alimentera-t-elle le marché ?
Selon l'analyste, l'Asie-Pacifique devrait dominer le marché de la lithographie EUV au cours de la période de prévision. L'Asie-Pacifique abrite certaines des plus grandes fonderies de semi-conducteurs et fabricants de dispositifs intégrés (IDM) au monde, notamment des leaders de l'industrie comme la Corée du Sud, Taiwan et le Japon. Avec une telle concentration d'installations de production de semi-conducteurs, la région est idéalement positionnée comme marché principal pour les technologies de fabrication avancées telles que la lithographie EUV.
Les gouvernements de la région Asie-Pacifique aident activement le secteur des semi-conducteurs en réalisant d'importants investissements et mettre en œuvre des politiques qui favorisent la croissance technique et l’autosuffisance. Cet environnement favorable favorise l'utilisation de technologies de pointe telles que la lithographie EUV pour accroître la compétitivité mondiale de leurs secteurs de semi-conducteurs.
En outre, la région Asie-Pacifique est connue pour son adoption rapide des technologies et sa forte culture de l'innovation. . Cette mentalité encourage les producteurs de semi-conducteurs de la région à améliorer constamment leurs capacités de fabrication en utilisant les technologies les plus sophistiquées disponibles, telles que la lithographie EUV, pour répondre à la demande croissante de dispositifs semi-conducteurs plus petits et plus puissants.
Comment une forte L'écosystème de R&D soutient la croissance du marché en Amérique du Nord ?
L'Amérique du Nord, en particulier les États-Unis, dispose d'un solide environnement de recherche et développement soutenu par les meilleures universités, organismes de recherche et entreprises de semi-conducteurs. Cet accent marqué sur l'innovation et le développement de technologies de pointe favorise les percées dans le domaine de la lithographie EUV, entraînant une adoption et une croissance accrues dans la région.
L'Amérique du Nord, qui abrite certaines des plus grandes entreprises de semi-conducteurs au monde. et maisons de conception, bénéficie des décisions stratégiques et des investissements de ces géants de l'industrie dans la lithographie EUV. L'engagement de ces entreprises en faveur du développement de la technologie des semi-conducteurs a un impact direct sur les progrès de la région sur le marché de la lithographie EUV.
En outre, le gouvernement américain et d'autres économies nord-américaines se concentrent de plus en plus sur la relance de l'industrie locale de fabrication de puces. Les initiatives et les financements axés sur l'amélioration des capacités de fabrication de semi-conducteurs, y compris les investissements dans des technologies avancées telles que la lithographie EUV, sont essentiels pour soutenir la croissance du marché de la lithographie EUV en Amérique du Nord.
Paysage concurrentiel
Le paysage concurrentiel du marché de la lithographie EUV est marqué par une concurrence féroce entre des concurrents importants cherchant à établir une domination dans ce secteur en évolution rapide. Les entreprises se battent intensément pour améliorer les performances et l'efficacité des systèmes de lithographie EUV, afin de répondre aux normes strictes de la production de puces de nouvelle génération.
Certains des principaux acteurs opérant sur le marché de la lithographie EUV incluent
ASML Holding NV, TEL, Nikon Corporation, Canon Inc., Carl Zeiss AG, HOYA Corporation, TRUMPF GmbH & Co. KG, Cymer, Inc, X-ray Lithography, Photronics, Inc., DNP Company, Ltd., SCREEN Holdings Co., Ltd., Merck KGaA, Lam Research Corporation, KLA Corporation, Applied Materials, Inc., Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd., JSR Corporation, Sumco Corporation et Hitachi High-Technologies Corporation.
Derniers développements
- En février 2024, ASML, le principal fabricant de systèmes de lithographie EUV, a publié de bons résultats financiers pour le quatrième trimestre 2023, en raison de la demande continue pour ses équipements EUV. L'entreprise a également réaffirmé son engagement à augmenter sa capacité EUV pour répondre à la demande future.
- En janvier 2024, TEL et Canon ont annoncé une collaboration visant à fournir des ébauches de masques EUV de nouvelle génération offrant des performances et une durabilité accrues. Ce partenariat abordera les problèmes de mise à l'échelle de la lithographie EUV pour les futures générations de puces.
- En novembre 2023, TSMC, le plus grand fabricant de puces sous contrat au monde, a annoncé son intention de construire une nouvelle usine en Arizona utilisant la technologie de lithographie EUV. Cet investissement met en évidence l'importance continue de l'EUV dans la fabrication avancée de puces.
Portée du rapport
ATTRIBUTS DU RAPPORT | DÉTAILS |
---|---|
Période d'études | 2018-2031 |
Taux de croissance | TCAC d'environ 20,1 % de 2024 à 2031 < /td> |
Année de base pour l'évaluation | 2023 |
Période historique td> | 2018-2022 |
Période de prévision | 2024-2031 td> |
Unités quantitatives | Valeur en milliards USD |
Couverture du rapport td> | Prévisions de revenus historiques et prévisionnelles, volume historique et prévisionnel, facteurs de croissance, tendances, paysage concurrentiel, acteurs clés, analyse de segmentation |
Segments couverts |
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Régions couvertes< /td> |
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Acteurs clés | ASML Holding NV, TEL, Nikon Corporation, Canon Inc., Carl Zeiss AG, HOYA Corporation, TRUMPF GmbH & Co. KG, Cymer, Inc. |
Personnalisation | Personnalisation du rapport avec achat disponible sur demande < /td> |
Marché de la lithographie EUV, par catégorie
Équipement
- Source lumineuse
- Optique
- Masque
- Autres
Utilisateur final
- Fabricant d'appareils intégrés (IDM)
- Fonderies
Région
- Amérique du Nord
- Europe li>
- Asie-Pacifique
- Amérique du Sud
- Moyen-Orient etamp; Afrique
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