EUV 光刻市场估值 – 2024-2031

人工智能、5G 连接和物联网 (IoT) 等先进技术被集成到 EUV 光刻中，用于开发高性能和节能的半导体芯片。因此，预计 EUV 光刻市场在预测期内的估值将达到 407.6 亿美元，超过 2023 年约 94.2 亿美元的市场规模。

此外，对摩尔定律的不断追求，以及对半导体制造中更好的晶体管密度的要求，正在推动 EUV 光刻技术的使用，并使市场从 2024 年至 2031 年的复合年增长率为 20.1% 2031.

EUV 光刻市场：定义/概述

极紫外 (EUV) 光刻是一种尖端的半导体制造方法，可制造具有极小特征的微芯片。它使用 EUV 光谱中极短波长的光来精确地对纳米级的半导体材料进行图案化。在 EUV 光刻中，高能激光产生 EUV 光，随后将其聚焦在具有适当电路设计的光掩模上。随后，这些设计被转移到涂有感光材料的硅晶片上，从而可以创建复杂的电路。

此外，它的应用范围很广，从计算到电信、汽车、医疗保健和消费电子产品。从速度更快的处理器和内存芯片到更高效的传感器和更先进的集成电路，EUV 光刻技术对于驱动当今社会发展的下一代电子产品的创造至关重要。

哪些因素推动了 EUV 光刻市场的增长？

物联网 (IoT)、大数据分析、机器学习和人工智能 (AI) 正在推动对高性能计算能力日益增长的需求。同样，消费电子业务也在不断寻找更小、更强大的产品。EUV 光刻对于生成这些应用所需的复杂芯片至关重要，从而推动了市场增长。

EUV 光刻市场的增长得益于强大供应链和生态系统的建立，其中包括专用材料、设备和知识的制造。随着越来越多的半导体制造商采用 EUV 技术，关键部件和材料供应商也扩大了业务以满足需求，从而推动了市场的发展。

此外，领先的半导体制造商和光刻设备供应商已投入大量研发资金，以加速 EUV 光刻技术的开发和商业化。这些投资推动了 EUV 光源、掩模和光刻胶的进步，使 EUV 光刻在大规模生产中更加实用且更具成本效益。

采用 EUV 光刻技术对市场的潜在影响是什么？

EUV 光刻系统非常昂贵，单台机器的成本超过 1 亿美元。此外，这些设备的维护和运行需要大量持续支出。设备成本高昂不仅影响半导体制造厂 (fab) 的资本投资，还影响芯片生产的整体成本，这可能会限制 EUV 光刻技术的应用，只有规模最大、财力最雄厚的半导体制造商才能使用。

EUV 光刻技术的工作波长为 13.5 nm，存在镜面光滑度、掩模缺陷和光刻胶敏感性等各种技术障碍。因此，实现并保持高效 EUV 光刻技术所需的极高精度在市场上面临着巨大的技术挑战，导致其应用速度较慢。

此外，虽然 EUV 光刻技术被视为摩尔定律的关键推动因素，但其他图案化技术（例如深紫外 (DUV) 光刻的多重图案化、定向自组装和纳米压印光刻）正在不断发展。这些替代方案为特定应用或芯片代提供了更具成本效益的解决方案。 EUV 与这些竞争技术之间的竞争影响了 EUV 在整个半导体行业中的实施速度。

类别敏锐度

哪些驱动因素促成了对光源的需求？

根据分析，光源部分估计在预测期内将占据最大的市场份额。EUV 光刻中的光源是系统中技术最先进的部分之一。为了产生 EUV 光，必须将微小的锡滴转换成等离子体，以发出所需波长为 13.5 nm 的光。这个过程极其复杂，需要高功率激光器、精确的定时和复杂的控制系统。这项技术的独特性和复杂性使其占据了相当大的市场份额，因为它对 EUV 光刻的运行至关重要，并且需要在研究、开发和制造方面投入大量资金。

EUV 光源的开发和运营成本很高。对强烈、可靠和清洁的 EUV 光的需求使得持续投资以提高效率和可靠性成为必要。这些费用反映在市场份额中，因为光源技术支出占 EUV 光刻系统总成本的相当一部分。此外，维护和能源消耗等运营成本也增加了光源在 EUV 设备市场中的财务重要性。

此外，EUV 光源市场的特点是，只有少数供应商能够提供符合半导体制造商严格标准的技术。这种限制是由于进入门槛高，包括对专业知识、专利和大量资本支出的要求。供应商的缺乏导致光源部分的市场份额更高，因为该技术的复杂性和在 EUV 光刻中的关键功能产生了竞争较少的高价值组件。

是什么让代工厂成为市场增长的中心？

预计代工厂部分将在预测期内主导 EUV 光刻市场。代工厂是半导体制造的支柱，为包括无晶圆厂半导体公司在内的各种客户提供大批量制造服务。他们的商业模式基于高效生产大量芯片的能力，使其成为实施 EUV 光刻等尖端技术的理想选择。EUV 光刻能够提供更小的特征尺寸和更复杂的芯片设计，而无需额外的图案化步骤，这对希望保持技术领先地位同时满足广大客户群需求的代工厂来说尤其有吸引力。

代工厂大量投资尖端制造技术以保持竞争优势，EUV 光刻也不例外。由于规模庞大，代工厂更有能力吸收与 EUV 光刻设备相关的高额初始支出，并在更大批量的芯片中摊销这些成本。这种将成本分摊到大量芯片上的能力使代工厂能够实现规模经济，降低每片芯片的成本并提高市场竞争力。

此外，代工厂还与主要技术企业和无晶圆厂半导体企业建立战略联盟，这些企业需要尖端工艺技术来生产下一代设备。对更小、更高效、更强大的半导体的需求促使代工厂使用 EUV 光刻技术来满足这些严格的规范。知名客户对复杂工艺节点的需求只有使用 EUV 技术才能经济地实现，这加强了代工厂在 EUV 光刻市场中的地位。

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国家/地区敏锐度

亚太地区蓬勃发展的半导体产业会推动市场发展吗？

据分析师称，预计亚太地区将在预测期内主导 EUV 光刻市场。亚太地区拥有一些世界顶级半导体代工厂和集成设备制造商 (IDM)，包括韩国、台湾和日本等行业领导者。该地区拥有如此大规模的半导体生产设施，是 EUV 光刻等先进制造技术的主要市场。

亚太地区的政府积极协助半导体行业，进行大规模投资并实施促进技术发展和自给自足的政策。这种有利的环境促进了 EUV 光刻等尖端技术的使用，从而提高了其半导体行业的全球竞争力。

此外，亚太地区以快速的技术采用和强大的创新文化而闻名。这种心态鼓励该地区的半导体生产商不断利用最先进的技术（如 EUV 光刻）来提高其制造能力，以满足对更小、更强大的半导体设备日益增长的需求。

强大的研发生态系统如何支持北美市场的增长？

北美，尤其是美国，拥有强大的研发环境，由顶尖大学、研究机构和半导体企业提供支持。这种对创新和尖端技术开发的高度重视促进了 EUV 光刻技术的突破，从而增加了该地区的采用率和增长。

北美是世界上一些最大的半导体企业和设计公司的所在地，受益于这些行业巨头在 EUV 光刻方面的战略决策和投资。这些公司致力于扩展半导体技术，对该地区在 EUV 光刻市场的进展产生了直接影响。

此外，美国政府和其他北美经济体越来越关注振兴本土芯片制造业。旨在提高半导体制造能力的举措和资金，包括对 EUV 光刻等先进技术的投资，对于支持北美 EUV 光刻市场的增长至关重要。

竞争格局

EUV 光刻市场的竞争格局以激烈的竞争为标志，重要的竞争对手都试图在这个快速发展的领域占据主导地位。各公司激烈竞争，以提高 EUV 光刻系统的性能和效率，以满足下一代芯片生产的严格标准。

EUV 光刻市场的一些知名参与者包括：

ASML Holding NV、TEL、尼康公司、佳能公司、卡尔蔡司公司、HOYA 公司、TRUMPF GmbH 和Co. KG、Cymer, Inc、X-ray Lithography、Photronics, Inc.、DNP Company, Ltd.、SCREEN Holdings Co., Ltd.、Merck KGaA、Lam Research Corporation、KLA Corporation、Applied Materials, Inc.、Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd.、JSR Corporation、Sumco Corporation 和 Hitachi High-Technologies Corporation。

最新动态

• 2024 年 2 月，领先的 EUV 光刻系统制造商 ASML 公布了 2023 年第四季度的良好财务业绩，这要归功于其 EUV 设备持续的需求。该公司还重申了提高 EUV 产能以满足未来需求的承诺。
• 2024 年 1 月，TEL 和佳能宣布合作，以提供性能和耐用性更高的下一代 EUV 掩模坯料。此次合作将解决未来芯片世代 EUV 光刻技术的扩展问题。
• 2023 年 11 月，全球最大的合约芯片制造商台积电宣布计划在亚利桑那州建造一座使用 EUV 光刻技术的新晶圆厂。这项投资凸显了 EUV 在先进芯片制造中的持续重要性。

报告范围

EUV 光刻市场，按类别

设备：

• 光源
• 光学器件
• 掩模
• 其他

最终用户：

• 集成设备制造商 (IDM)
• 代工厂

地区：

• 北美
• 欧洲
• 亚太地区
• 南美
• 中东和非洲

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