ALD-Ausrüstungsmarkt – Nach Ausrüstung Batch-Reaktoren, Einzelwafer-Reaktoren, räumliche ALD-Reaktoren, Remote-Plasma-ALD-Reaktoren, nach Abscheidungsmethode Plasmaverstärkte ALD, Thermische ALD, räumliche ALD, Power-ALD, nach Filmtyp, nach Anwendung und Prognose, 2024 – 2034

Marktgröße für ALD-Geräte

Der Markt für ALD-Geräte zur Atomlagenabscheidung wurde im Jahr 2023 auf über 3,5 Milliarden USD geschätzt und dürfte zwischen 2024 und 2034 eine durchschnittliche jährliche Wachstumsrate CAGR von über 10 % verzeichnen. ALD-Geräte werden in der Halbleiterfertigung und verschiedenen Industrien eingesetzt, um dünne Filme mit präziser Dicke und Gleichmäßigkeit abzuscheiden. Dabei werden abwechselnde chemische Reaktionen in der Gasphase angewendet, um ultradünne Schichten auf Substraten zu erzeugen, wodurch eine präzise Kontrolle der Materialeigenschaften ermöglicht wird.
 

ALD-Geräte spielen eine entscheidende Rolle bei der Herstellung fortschrittlicher Halbleitergeräte, Beschichtungen und Funktionsmaterialien für Elektronik, Energiespeicherung und andere Anwendungen. Der steigende Bedarf an Halbleitergeräten aufgrund der weit verbreiteten Verwendung von Smartphones, IoT-Geräten und sich entwickelnden Technologien wie 5G und künstlicher Intelligenz KI wirkt sich auf den Markt für ALD-Geräte aus. Die ALD-Technologie, die eine genaue und konsistente Dünnschichtabscheidung für verbesserte Leistung und Zuverlässigkeit bietet, ist für die Herstellung anspruchsvoller Halbleitergeräte von entscheidender Bedeutung. Da die Nachfrage nach Halbleitern weiter steigt, besteht ein wachsender Bedarf an ALD-Geräten, die die genauen Spezifikationen moderner Geräteherstellungsprozesse erfüllen. So kündigte Tokyo Electron Limited im März 2023 eine neue Entwicklungsanlage im Büro in Hosaka in Nirasaki City, Präfektur Yamanashi, an. Diese Erweiterung konzentriert sich auf kontinuierliche technologische Fortschritte, um Halbleiter vielfältiger und komplexer zu machen. Um der steigenden Nachfrage der Halbleiterindustrie gerecht zu werden, investiert das Unternehmen außerdem umfassend in die Entwicklung neuer Anlagen.
 

Der Bedarf an ALD-Geräten ist auf die zunehmende Nutzung der Nanotechnologie in der Industrie zurückzuführen. Anwendungen in der Nanotechnologie können von der Fähigkeit von ALD profitieren, ultradünne Filme mit atomarer Präzision abzuscheiden. Der Bedarf an präziser Materialabscheidung in einer Vielzahl von Branchen, darunter Elektronik, Gesundheitswesen und Energie, treibt die Einführung von ALD-Geräten voran und etabliert sie als Schlüsseltechnologie für die Weiterentwicklung nanotechnologiebasierter Innovationen.
 

Herausforderungen hinsichtlich Materialkompatibilität und -integration behindern den ALD-Ausrüstungsmarkt. Es kann schwierig sein, zu garantieren, dass ALD-Prozesse mit einer Vielzahl von Substraten, Materialien und Gerätearchitekturen funktionieren. Um eine ordnungsgemäße Haftung, Schnittstellenqualität und Kompatibilität mit aktuellen Herstellungsprozessen zu erreichen, sind umfassende Charakterisierung und Optimierung erforderlich. Um die breite Einführung der ALD-Technologie zu fördern, müssen diese Probleme gelöst werden, insbesondere in Sektoren, in denen mehrschichtige Strukturen oder heterogene Integration erforderlich sind.
 

Trends auf dem ALD-Ausrüstungsmarkt

Der Bedarf an fortschrittlichen Halbleiterfertigungstechnologien wie ALD wird durch die wachsende Nachfrage nach miniaturisierten elektronischen Geräten wie Wearables, Smartphones und IoT-Geräten Internet of Things getrieben. Die zunehmende Nutzung der Nanotechnologie in verschiedenen Sektoren wie Elektronik, Gesundheitswesen und Energie hat die präzisen Dünnschichtabscheidungsfähigkeiten von ALD-Geräten unverzichtbar gemacht. Der Bedarf an ALD-Beschichtungen in Energiespeichergeräten, Solarzellen und LED-Beleuchtung steigt aufgrund der zunehmenden Betonung von Nachhaltigkeit und Energieeffizienz. Die wachsenden Anwendungen von ALD außerhalb der traditionellen Halbleiterherstellung, wie MEMS-Geräte, Sensoren und biomedizinische Geräte, tragen zur Marktexpansion bei. So brachte Veeco Instruments Inc. im Februar 2020 eine Reihe von MOCVD-Systemen auf den Markt, um die Entwicklung von Hochleistungsphotonikgeräten zu erleichtern. Die MOCVD-Plattform umfasst die proprietäre TurboDisc-Reaktortechnologie für hervorragende Filmausbeute, Gleichmäßigkeit und Geräteleistung für verschiedene Photonikanwendungen. Dieses Modell steigerte die Produktion von VCSEL, Mini-/Mikro-LED-Geräten und Kantenemittierenden Laser-EEL.

Kontinuierliche Weiterentwicklungen der ALD-Technologie, wie z. B. erhöhter Durchsatz, bessere Filmgleichmäßigkeit und die Entwicklung neuer Materialien, treiben die Marktexpansion voran, indem sie die Attraktivität und Anwendbarkeit von ALD in einem breiteren Branchenspektrum erhöhen. Diese Faktoren unterstützen den Aufwärtstrend des Marktes.
 

Analyse des ALD-Ausrüstungsmarktes

Basierend auf der Anwendung ist der Markt segmentiert in Computersektor, Rechenzentren, Unterhaltungselektronik, Gesundheitswesen & Biomedizin, Automobil und Energie & Strom. Das Segment Computersektor hatte im Jahr 2023 einen Marktanteil von über 30 %.
 

• Der globale Markt verzeichnet aufgrund vieler Faktoren ein Wachstum im Computersektor. Aufgrund der steigenden Nachfrage nach Hochleistungscomputergeräten wie Servern, Rechenzentren und Spielekonsolen besteht ein wachsender Bedarf an hochentwickelten Halbleiterkomponenten mit verbesserter Funktionalität und Zuverlässigkeit. Die ALD-Technologie ermöglicht die präzise Abscheidung dünner Filme auf Halbleitersubstraten, wodurch die Geräteleistung und Energieeffizienz erhöht werden.
   
• Für den breiten Einsatz von KI, maschinellem Lernen ML und Big Data-Analyseanwendungen werden optimierte Halbleitergeräte benötigt. Diese Geräte können mit ALD-fähigen Herstellungsprozessen hergestellt werden. Die Entwicklung hochmoderner Computerarchitekturen, wie etwa neuromorphes Computing und Quantencomputing, hängt von ALD-Maschinen zur Herstellung spezieller Materialien und Strukturen ab, was die Nachfrage nach ALD in der Computerbranche ankurbelt.
   

Basierend auf der Abscheidungsmethode ist der Markt segmentiert in plasmaverstärkte ALD, thermische ALD, räumliche ALD, Leistungs-ALD und andere. Das Segment der räumlichen ALD wird voraussichtlich von 2024 bis 2034 eine durchschnittliche jährliche Wachstumsrate von 11 % verzeichnen.
 

• Räumliche ALD, eine Variante der traditionellen ALD, gewinnt aufgrund ihrer einzigartigen Fähigkeiten an Popularität. Anders als herkömmliche ALD, bei der dünne Filme gleichmäßig auf einem Substrat abgeschieden werden, ermöglicht räumliche ALD eine selektive Abscheidung in bestimmten Bereichen und bietet so mehr Flexibilität und Effizienz bei der Herstellung komplexer Geräte. Diese Technologie eignet sich besonders für Anwendungen, die eine präzise Kontrolle der Materialplatzierung erfordern, wie etwa MEMS-Geräte, Sensoren und fortschrittliche Verpackungen.
   
• Die Fähigkeit von Spatial ALD, dünne Filme auf nicht-planaren und dreidimensionalen Oberflächen abzuscheiden, erweitert seine Anwendungsmöglichkeiten in aufstrebenden Branchen wie tragbarer Elektronik und biomedizinischen Geräten. Da die Nachfrage nach hochintegrierten und miniaturisierten Produkten steigt, wird räumliche ALD eine entscheidende Rolle bei der Ermöglichung fortschrittlicher Herstellungsverfahren spielen und ihre Akzeptanz und ihr Wachstum auf dem Markt steigern.
   

Nordamerika hatte 2023 einen bedeutenden Anteil von über 35 % am globalen ALD-Gerätemarkt. Die Branche wächst in Nordamerika aufgrund mehrerer Faktoren. Die Region verfügt über einen robusten Halbleitersektor, in dem Unternehmen kontinuierlich in hochmoderne Fertigungstechnologien wie ALD investieren. Die Entwicklung neuer ALD-Geräte und -Anwendungen wird durch Nordamerikas Status als Zentrum für technologische Innovation und Forschung vorangetrieben. Die steigende Nachfrage nach ALD in Entwicklungsbranchen wie der Luft- und Raumfahrt, der Verteidigung und dem Gesundheitswesen fördert die Marktexpansion. Insgesamt ist das Wachstum des nordamerikanischen Marktes auf günstige wirtschaftliche Bedingungen und technologische Fortschritte zurückzuführen.
 

Marktanteil von ALD-Geräten

Wichtige Akteure in der ALD-Gerätebranche sind

• Aixtron SE
• ASM International NV
• Beneq Oyj
• Cambridge NanoTech
• DEPOSITION GmbH
• EV Group Evonik Industries AG
• Hitachi High-Technologies Corporation
• Lam Research Corporation
• Meyer Burger
• Oxford Instruments Plc
• Picosun Oy
• SENTECH Instruments GmbH
• SunChemical
• TEL Tokyo Electron Limited
• Veeco Instruments Inc.
   

ASM International NV hält einen bedeutenden Anteil an der ALD-Ausrüstungsbranche. ASM International NV ist ein führender Anbieter von Halbleiterfertigungsausrüstung, einschließlich ALD-Systemen. Seine ALD-Ausrüstung ermöglicht die präzise Abscheidung dünner Filme für fortschrittliche Halbleiterbauelemente und bietet Lösungen für die Massenproduktion und Forschungsanwendungen. Die ALD-Technologie von ASM International NV bietet Zuverlässigkeit, Skalierbarkeit und die Fähigkeit, die strengen Anforderungen der Halbleiterindustrie zu erfüllen.
 

Große Akteure wie ASM International NV, Lam Research Corporation, TEL Tokyo Electron Limited und Beneq Oyjare setzen ständig strategische Maßnahmen wie geografische Expansion, Akquisitionen, Fusionen, Kooperationen, Partnerschaften und Produkt- oder Serviceeinführungen um, um Marktanteile zu gewinnen.
 

Neuigkeiten aus der ALD-Ausrüstungsbranche

• Im September 2022 kündigte ACM Research, Inc., ein Anbieter von Waferverarbeitungslösungen für Halbleiter und fortschrittliche Wafer-Level-Packaging-WLP-Anwendungen, die Erweiterung seiner 300-mm-Ultra-Fn-Ofen-Trockenverarbeitungsplattform mit der Einführung seines Ultra-Fn-A-Ofenwerkzeugs an. Das System hat thermisches ALD zu ACMs umfangreicher Liste unterstützter Ofenanwendungen hinzugefügt.
   
• Im Juni 2022 hat Applied Materials, Inc., ein führendes US-amerikanisches Halbleiterausrüstungsunternehmen, Picosun Oy übernommen. Picosun versorgt globale Industrien mit den fortschrittlichsten ALD-Dünnschichtbeschichtungslösungen. Die ALD-Lösungen von Picosun ermöglichen einen technologischen Sprung in die Zukunft mit schlüsselfertigen Produktionsprozessen und Fachwissen auf diesem Gebiet.
   

Der Marktforschungsbericht zu ALD-Geräten umfasst eine ausführliche Berichterstattung über die Branche mit Schätzungen und Prognose hinsichtlich des Umsatzes in Milliarden USD von 2018 bis 2034, für die folgenden Segmente

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Marktnach Ausrüstung

• Batch-Reaktoren
• Einzelwafer-Reaktoren
• Räumliche ALD-Reaktoren
• Remote-Plasma-ALD-Reaktoren

Marktnach Abscheidungsmethode

• Plasmaverstärkte ALD
• Thermische ALD
• Räumliche ALD
• Power ALD
• Sonstige 

Markt, nach Filmtyp

• Metallfilm
• Oxidfilm
• Sulfidfilm
• Nitridfilm
• Fluoridfilm

Markt, nach Anwendung

• Computersektor
• Rechenzentren
• Unterhaltungselektronik
• Gesundheitswesen und Biomedizin
• Automobil
• Energie & Stromversorgung

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