L'équipement de lithographie est un outil essentiel en microfabrication, utilisant des faisceaux de lumière ou d'électrons pour transférer des motifs d'un masque sur un substrat. Essentiel dans la fabrication de semi-conducteurs, il crée avec précision des structures complexes à l'échelle microscopique, facilitant la production de composants et d'appareils électroniques avancés dans diverses industries.
 

L'industrie des équipements de lithographie nécessite un investissement initial important, en particulier pour les systèmes avancés tels que la lithographie Extreme Ultraviolet EUV . L'investissement important requis pour l'achat et l'installation d'équipements de lithographie peut constituer un obstacle pour les petits fabricants de semi-conducteurs et ralentir l'adoption d'équipements de lithographie de pointe.
 

Impact du COVID-19

La pandémie de COVID-19 a eu des impacts notables sur le marché des équipements de lithographie. L’industrie des semi-conducteurs s’appuie sur des chaînes d’approvisionnement mondiales complexes, avec de nombreux composants provenant de différentes régions. La pandémie a perturbé ces chaînes d’approvisionnement, entraînant des retards dans la production et la livraison des composants des équipements de lithographie. Les confinements, les fermetures d’usines et les restrictions de transport ont contribué aux défis de la chaîne d’approvisionnement. De nombreux fabricants de semi-conducteurs ont été confrontés à des incertitudes économiques et à une demande réduite pour certains produits pendant la pandémie. Cette incertitude économique a conduit certaines entreprises à retarder ou à reporter leurs dépenses en capital, notamment leurs investissements dans de nouveaux équipements de lithographie. Ceci, à son tour, a affecté la demande d'équipements de lithographie au cours des premiers stades de la pandémie.
 

Tendances du marché des équipements de lithographie

La lithographie ultraviolette extrême EUV gagne du terrain la traction comme technologie clé pour la fabrication avancée de semi-conducteurs. Les équipements de lithographie tirant parti de la technologie EUV permettent une configuration plus précise des tranches de semi-conducteurs, réduisant ainsi la complexité associée aux techniques de configuration multiples. L'adoption de la lithographie EUV est considérée comme une étape importante vers l'obtention de nœuds plus petits et de densités de puces plus élevées.
 

Au-delà de la lithographie traditionnelle pour la formation de transistors, l'accent est de plus en plus mis sur les technologies d'emballage avancées. Les équipements de lithographie prenant en charge le conditionnement de circuits intégrés 2,5D et 3D sont très demandés, permettant la création de structures semi-conductrices plus complexes et étroitement intégrées. Cette tendance répond à la demande croissante de performances et de fonctionnalités dans un encombrement réduit.
 

L'intégration de l'IA et du ML dans les équipements de lithographie est une tendance d'avenir. Ces technologies sont explorées pour optimiser les processus de lithographie, prédire les problèmes potentiels et améliorer l’efficacité globale de la fabrication. L'utilisation de l'IA et du ML en lithographie vise à améliorer la reconnaissance des formes, à réduire les défauts et à augmenter le rendement.
 

Analyse du marché des équipements de lithographie

En fonction de l'application, le marché est segmenté en emballage avancé, dispositifs MEMS, dispositifs LED et autres. Le segment MEMS a dominé le marché mondial avec une part de plus de 35 % en 2022.
 

• L'intégration des appareils MEMS dans les appareils et systèmes intelligents continue de croître. Les capteurs MEMS, tels que les accéléromètres et les gyroscopes, font partie intégrante des fonctionnalités telles que la détection de mouvement et la stabilisation d'image des smartphones et des appareils photo. La demande de dispositifs MEMS de haute précision et performances alimente la croissance de l'utilisation des équipements de lithographie.
   
• Les progrès continus de la technologie MEMS, notamment le développement de nouveaux types de capteurs et d'applications innovantes, alimentent le besoin de technologies avancées. matériel de lithographie. À mesure que les dispositifs MEMS deviennent plus sophistiqués, les processus de lithographie permettent la fabrication de structures plus petites et plus complexes.
   

Basé sur la technologie, le marché est divisé en lithographie ArF, KrF, i-line, ArF par immersion et Extreme Ultraviolet EUV . Le segment de la lithographie Extreme Ultraviolet EUV devrait enregistrer un TCAC de plus de 10 % jusqu'en 2034. La croissance du segment est attribuée à divers facteurs 
 

• Les offres de lithographie EUV ont été considérablement améliorées. résolution par rapport aux méthodes de lithographie traditionnelles. Avec des longueurs d'onde plus courtes dans le spectre ultraviolet extrême, l'EUV permet d'obtenir des détails plus fins dans le processus de modélisation. Cette précision améliorée est essentielle pour la fabrication de dispositifs semi-conducteurs comportant des composants densément emballés.
   
• L'un des avantages significatifs de la lithographie EUV est sa capacité à réaliser une configuration à exposition unique pour certaines couches critiques. Les méthodes de lithographie traditionnelles, en particulier au niveau des nœuds plus petits, nécessitent souvent des expositions multiples et des techniques complexes de création de motifs multiples. La capacité d'exposition unique de l'EUV simplifie le processus de fabrication, réduisant ainsi le temps et la complexité de la production.
   

L'Asie-Pacifique a dominé le marché mondial des équipements de lithographie avec une part de plus de 35 % en 2022. La région Asie-Pacifique abrite certains des principaux centres mondiaux de fabrication de semi-conducteurs, notamment Taïwan, la Corée du Sud, la Chine et le Japon. Ces pays abritent d’importantes installations de fabrication de semi-conducteurs et sont des acteurs clés de la chaîne d’approvisionnement mondiale en électronique. La croissance des activités de fabrication de semi-conducteurs est directement liée à la demande d’équipements de lithographie avancés. L'industrie électronique en Asie-Pacifique a connu une croissance significative, portée par la demande des consommateurs, les applications industrielles et les progrès technologiques. La production d'appareils électroniques, allant des smartphones et tablettes à l'électronique automobile, nécessite des équipements de lithographie avancés pour la fabrication de semi-conducteurs. L'adoption croissante de composants électroniques dans divers secteurs contribue à la demande de solutions de lithographie.
 

Part de marché des équipements de lithographie

Les acteurs opérant sur le marché se concentrent sur la mise en œuvre de différents stratégies de croissance pour renforcer leurs offres et étendre leur portée sur le marché. Ces stratégies impliquent le développement et l'amélioration de nouveaux produits. lancements, partenariats et amp; collaborations, fusions et amp; acquisitions et fidélisation de la clientèle.

Les principaux acteurs

• ASML Holding NV
• Nikon Corporation
• Canon Inc.
• Veeco Instruments Inc.
• SUSS MicroTec AG
• Onto Innovation Inc.
• JEOL Ltd
   

Actualités de l'industrie des équipements de lithographie

• En mars 2022, Nikon Corporation a lancé le FX-88S, un nouveau système de lithographie FPD à plaques Gen 8 pour améliorer la production de divers panneaux haute définition. Afin de produire des panneaux haute définition en grande quantité, le FX-88S intègre l'objectif de projection i-line, créé pour la première fois pour le système de lithographie FPD à plaque G6 FX-68SH/68S. Avec le FX-88S, le i- L'objectif de projection linéaire a été entièrement amélioré, permettant une haute résolution de 1,5 μm pour les plaques Gen 8.
   

Le rapport d'étude de marché sur les équipements de lithographie comprend une couverture approfondie de l'industrie avec des estimations & prévisions en termes de chiffre d'affaires milliards USD de 2018 à 2034 pour les segments suivants 

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Marché, Par technologie

• ArF
• KrF
• i-line
• Immersion ArF
• Lithographie ultraviolette extrême EUV

Marché, par équipement

• Lithographie/photolithographie optique
• Aligneurs de masques
• Lithographie par faisceau d'électrons
• Lithographie ionique
• Lithographie aux rayons X
• Lithographie par nano-impression
• Autres< /li>

Marché, Par application

• Emballage avancé
• Dispositifs MEMS
• LED appareils
• Autres

Marché, par secteur d'utilisation finale

• Fabrication de produits électroniques
• Soins de santé et amp; sciences de la vie
• Industrie automobile
• Télécommunications
• Autres

Les informations ci-dessus sont fournies pour les régions suivantes et pays 

• Amérique du Nord
  • États-Unis
  • Canada
• Europe
  • Allemagne
  • Royaume-Uni
  • France
  • Italie
  • Espagne
  • Reste de l'Europe< /li>
• Asie-Pacifique
  • Chine
  • Japon
  • Inde
  • Corée du Sud
  • ANZ
  • Reste de l'Asie-Pacifique 
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  • Brésil
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  • Reste de l'Amérique latine
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  • EAU
  • Arabie Saoudite
  • Afrique du Sud
  • Reste de la MEA